在半导体开发/制造过程中，去除颗粒、水分和氧气等干扰因素是一个主要问题。为了确认干扰的消除，

我们的露点计、温度/湿度计和氧浓度计被用于半导体制造、运输和检查等各种过程。也用于除湿空气

（干燥空气）的除湿以及氮气、氩气、氦气、氢气等气体纯度的测量和控制。相反，某些过程需要高水

分含量，在这些过程中，露点计用于保持恒定的水分含量。主要使用以下产物。

水分测量

① 将水分含量控制在极微量（ppb 至个位数 ppm）的过程
　? 可测量低至 -100 ℃ 露点的 TK-100 电容式露点计（氧化铝型） 　? TE-660
控制的过程
露点至少-60°颁的露点计（聚合物型）
③ 最重要的工艺，作为露点计的标准
　? MBW镜面冷却型能够测量-95°C至+99°C的露点（镜面式）露点计
④ 需要控制相对湿度水平的工艺和洁净室
　? 简易型号 EE060
⑤ 需要大量水分并需要控制恒定含水量的工艺
　? 主要用于高温高湿下的测量EE33 温湿度计，具有防冷凝措施

氧气浓度测量

① 需要通过氢气置换
　等去除氧气的工艺 ? 可确认 1 ppm 或更低的 2001LC 原电池氧浓度计
② 需要在没有氢气的情况下测量痕量氧气浓度的工艺
　? 能够测量高达 ppb 水平的型号4100氧化锆氧气浓度计

风速测量

① 在洁净室和制造设备中气流非常重要的过程
　? 可测量微风的风速计