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猎户座3100系统：完善的空气分子污染物监测系统

实时监测空气分子污染（AMC ）对于半导体生产过程极为重要。

快速监测、报警、极低浓度测量、宽测量区域、多气体的高灵敏响应等是半导体工业要求之一。深紫外光刻工艺特别关注氨、胺类、N-甲基毗咯烷酮NMP、酸类等浓度测量，当这些气体与化学放大光刻胶反生反应 时，将深深的影响半导体器件质量。

传统古老的方法多采用间接测量分析方法。包括撞击滤尘器、离子色谱、化学荧光法，这些方法分析速度太慢，操作过程太复杂，昂贵并且测量结果不精确。

CEAS （腔增强吸收光谱）---原理

基于颁贰础厂（腔增强吸收光谱）技术的仪器原理图，使用近红外波段光进行高灵敏度吸收测量，测量腔室由一组高反射率多次反射镜片组成的柱状体构成，激光束经过固态校准器（贵厂搁=2.00骋贬锄）时会测量得到相对激光波长。为了保证清晰度，忽略了原本照射到左侧测量单元腔镜外的光束。