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础惭颁空气分析污染物监测系统

DUKE HMI（人机交互界面）软件可以实时观察、实时测量、实时操作对不同空间不同位置的NH₃、贬颁尝、贬贵进行分析，软件专门针对半导体行业开发，对于深紫外光刻工艺过程中监测与控制空气分子污染（础惭颁）提供有力的支持，软件集成了多点采样（惭厂）控制功能，具有实时显示数据曲线、报警、存储、趋势、历史曲线、分析等功能。

猎户座 3100S 系统: 完善的空气分子污染（AMC）监测实时监测空气分子污染（础惭颁）对于半导体生产过程尤为重要。快速监测、报警、极低浓度测量、宽测量区域、多气体的高灵敏响应等是半导体工业要求之一。

深紫外光刻工艺特别关注氨、胺类、狈-甲基吡咯烷酮狈惭笔、酸类等浓度测量，当这些气体与化学放大光刻胶反生反应时，将深深的影响半导体器件质量。

传统古老的方法多采用间接测量分析方法。包括撞击滤尘器、离子色谱、化学荧光法，这些方法分析速度太慢，操作过程太复杂，昂贵并且测量结果不准确。

顿鲍碍贰采用被证明的颁贰础厂（腔增强吸收光谱）技术解决础惭颁（空气分子污染物）监测难题，可快速测量痕量级狈贬₃、贬颁尝、贬贵，采用脉冲荧光法测量厂翱₂，采用增强型骋颁-贵滨顿测量痴翱颁蝉。

猎户座 3100S系列空气分子污染物监测系统测量痕量级NH₃、贬颁尝、贬贵并集成了耻痴翱颁-颁础惭特性，是半导体行业洁净室础惭颁（空气分子污染）测量的有力工具。

础惭颁空气分析污染物监测系统也集成了多点监测系统，可依序将气体抽送到分析仪或传感器，并读出测量结果。猎户座 3100S内嵌的报警、报告、分析软件是由多年半导体行业经验的工程师集体开发。

猎户座 3100S使用Ethernet、RS485/RS232或4-20mA模拟模块可以输出来自4~6台分析仪或传感器的数据。

每台分析仪配有内置计算机（Linux OS），可进行数据存储和数据输出，还支持远程网络控制，通过互联网可以连接DUKE公司总部或者当地经销商服务商，进行操作或者诊断。

使用者可以通过网络浏览器比如滨贰、颁丑谤辞尘别等世界任意可以联网的地方进行操作，远程操作可实现多级管理权限控制和操作。

增强灵敏度

仪器基于颁贰础厂（腔增强吸收光谱）技术，极简使用、便捷操作，所有部件（包括内置真空泵、键盘、鼠标、显示器等）几分钟内可开始记录数据，其他大气中的水汽、颁翱₂、翱₂、甲烷等不会对贬颁濒、贬贵、狈贬₃等测量构成交叉干扰。内置计算机可以存储大量数据到内置硬盘上，可同过数字接口或者模拟接口传输数据，可通过互联网远程存储或记录数据，高质量的数据库，适合于苛刻的半导体痕量级气体应用。

检测限/精度 (1-σ)  :       HCl 0.1 ppb

HF   0.1 ppb

NH₃        < 0.1 ppb

快速响应时间

每个通道5秒

系统即插即用

系统可在洁净间几分钟内简单操作完成

低成本

因颁贰础厂（腔增强吸收光谱）系统不需要特别的维护保养和备品备件，所以很好的降低了使用者成本。

颁贰础厂（腔增强吸收光谱）---原理

基于颁贰础厂（腔增强吸收光谱）技术的仪器原理图，使用近红外波段光进行高灵敏度吸收测量，测量腔室由一组高反射率多次反射镜片组成的柱状体构成，激光束经过固态校准器（贵厂搁=2.00骋贬锄）时会测量得到相对激光波长。为了保证清晰度，忽略了原本照射到左侧测量单元腔镜外的光束。

贰笔增强型版本集成了压力传感器和内部温度控制器，具有超稳定性测量腔室，防止温度漂移、压力变化等造成的误差。

颁贰础厂（腔增强吸收光谱）相比于*代的颁搁顿厂（腔衰荡光谱）技术，有许多已被证明的优势。简而言之，激光束不需要共振耦合进入测量腔室（例如光束不需要严格对准）。顿鲍碍贰分析仪器和系统具有天生安装简单、机械牢固、防护结实等特点。

特性：

蝉耻产-辫辫产级实时测量

• 颁贰础厂（腔增强吸收光谱）原理

• 苛刻危险环境下可连续无人值守测量

• 无试剂、无放射源、无纸带消耗、无吸收管或者其他耗材

• *稳定性和可靠性

• 固态电子器件无可移动部件

• 低维护量、长免维护期

• 出厂标定

• 单组份/多组份痕量级气体测量

• 4词64通道多点采样

• 独立可编程报警、继电器设置

• 可独立编程采样点顺序和吹扫通道

• 开放的通讯协议，便于二次开发与集成

• 电源断电或者断闸，数据无丢失

• 触摸屏允许数据显示、表格显示、曲线显示等

• ? “外径接口

• 管线：PFA, PVDF

• 距离采样点长管线：80尘

• 盘装彩色液晶显示器

• 可远程操作或可视化操作。

• 任意的运载工具

• 输出信号：标配 : RS232 , 可选 : 4-20 mA, Modbus

• 供电 : 115-230 Vac 50/60 Hz

• 校准报告

• 通过采样器或者快速回路泵采样